Remerciez-le!

Remerciez @Admin pour avoir partagé cet document gratuitement, de la manière la plus simple, en partageant sur les réseaux sociaux.

Java 1 ? Jean-François Morin Nanosciences et nanotechnologies CHM- Chapitre Modelage chimique et techniques lithographiques D C ? Jean-François Morin Nanosciences et nanotechnologies CHM- Le modelage chimique surtout sur des surfaces permet la fabrication

? Jean-François Morin Nanosciences et nanotechnologies CHM- Chapitre Modelage chimique et techniques lithographiques D C ? Jean-François Morin Nanosciences et nanotechnologies CHM- Le modelage chimique surtout sur des surfaces permet la fabrication des microprocesseurs et autres dispositifs essentiels dans le domaine de l ? électronique C ? est ce domaine qui a fait évoluer les techniques de modelage patterning en fonction de la demande toujours croissante de dispositifs miniatures et performants ? Photolithographie lithographie optique ? Lithographie par Impression soft lithography ? Lithographie à faisceau électronique ? Lithographie Dip-Pen ? RÉSOLUTION La première technique lithographique est celle qui est encore utilisée dans les usines de composantes électroniques de nos jours La photolithographie Photolithograhie La photolithographie est une technique permettant de graver des motifs patterns sur des surfaces à l ? aide de la lumière Cette technique permet de transférer les formes géométriques d ? un masque sur un substrat à l ? aide de photons D C ? Jean-François Morin Schéma général Nanosciences et nanotechnologies CHM- Photorésiste positif la région exposée est enlevée Photorésiste négatif la région non-exposée est enlevée Techniques de photolithographie Il existe trois types de photolithographie Proximité contact projection Proximité Contact Projection D C ? Jean-François Morin Nanosciences et nanotechnologies CHM- Au niveau pratique cette technique permet d'atteindre des résolutions sous les nm Théoriquement la limite de résolution est donnée par Pour aller sous cette limite on peut soit diminuer ? ou changer les paramètres de la lentille Comme certains matériaux ne résiste pas à la radiation de plus haute énergie la deuxième option sera empruntée Photolithographie d ? immersion Cette technique tire pro ?t de l ? indice de réfraction de l ? eau pour donner une meilleure résolution Problèmes Présence de bulles d ? air et variation de température et de pression qui peut changer n D C ? Jean-François Morin Nanosciences et nanotechnologies Longueurs d ? ondes utilisées CHM- Dans le passé récent - dernières années trois principales longueurs d ? ondes ont été utilisées pour la photolithographie nm voir page suivante Pour certaines applications le nm peut être aussi utilisé Toutefois cette longueur d ? onde cause beaucoup de problème quant à la stabilité des matériaux Pour des motifs de moins de nm l ? industrie utilise la photolithographie par immersion mais avec une longueur d ? onde de nm beaucoup moins dommageable Présentement la limite inférieure de longueur d ? onde utilisée est L ? EUV Extreme UV à nm D C ? Jean-François Morin Nanosciences et nanotechnologies CHM- Dans un appareillage ??conventionnel ? de EUV - de la lumière est absorbée par le système de lentilles Des sources très puissantes doivent donc utilisées Cette technique n ? est pas commercialisée et ne le sera peut-être jamais pour plusieurs raisons ? Génération d ? électrons qui di ?usent et a ?ectent la résolution ? Désorption et création de charges à la surface du photorésiste ? Problème de etching par les gaz avoisinants qui ont été ionisés par la radiation ? Doit être